产品展示
◆ 主要用于半导体器件退火及烧结等工艺，可进行真空、气体保护等 ◆ 设备结构新颖,操作方便 ◆ 在一台设备上可以完成多个工艺流程
◆ 气相外延是一种单晶薄层生长方法 ◆ 气相外延广义上是化学气相沉积的一种特殊方式，其生长薄层的晶体结构是单晶衬底的延续，而且与衬底的晶向保持对应的关系 ◆ 在半导体科学技术的发展中，气相外延发挥了重要作用 ◆ 砷化踪(GaAs)气相外延技术生长的砷化鲸(GaAs)纯度高、电学特性好，广泛的应用于霍尔器件、耿氏二极管、场效应晶体管等微波器件中
◆ 直拉法晶体生长专用设备，可实现在高压、真空和保护气氛下直拉生长晶体 ◆ 采用自动称重结构，在保证晶体品质的前提下实现了直拉晶体的自动生长过程
◆ 本系统是一套完备的石墨烯制备系统,包括硬件和软件部分 ◆ 工作在常压气氛或真空条件，通过控制生长工艺，既可以生长出六边形的石墨烯单晶，也可以生长出花瓣状的石墨烯的单晶
♦ 石墨烯薄膜产业化设备 ♦ 宽幅卷对卷连续生长 ♦ APC系统:真空蝶阀自动控制 ♦ 碳源等工艺气体MFC控制 ♦ 薄膜制备过程全自动控制 ♦ 三腔室结构
◆ 快速退火炉是利用红外热辐射实现快速加热的一种半导体热处理工艺设备，通过灯光辐射型热源功率控制模块装置和专用灯组对位于工艺腔体的半导体硅片进行快速加热来实现稳定的升温过程